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国内首家!46所成功制备出HVPE氧化镓同质外延片
来源:新闻中心
发布时间:2021年12月08日 编辑:新闻中心

  日前,46所HVPE研发团队根据多年的HVPE技术基础,设计并搭建实验平台、调整流场结构和探究复杂的生长规律,经过不懈努力,突破了HVPE同质外延Ga2O3过程中气相成核和外延层质量控制等难题,成功制备出(001)Ga2O3同质外延片样品,外延层厚度>10μm,XRD半高宽<50arcsec,表面粗糙度<0.5nm,载流子浓度达到1016cm-3数量级,其关键技术指标与国外先进水平相近,样品已送至国内相关器件研制机构验证。

  Ga2O3作为新型超宽禁带半导体材料,具有优良的物理化学特性,在高功率器件领域有着重要应用。虽然国内Ga2O3体单晶制备技术已经取得了显著进步,但由于国内Ga2O3外延厚膜技术仍存在空白,限制了Ga2O3器件的发展。HVPE作为生长厚膜的最佳方法,目前在国际上只有日本Novel Crystal Technology公司利用此技术研发并量产Ga2O3同质外延片,我国国内尚处于起步阶段,罕有HVPE同质外延Ga2O3的相关报道。

  46所作为目前国内首家掌握HVPE Ga2O3同质外延技术的科研单位,HVPE Ga2O3同质外延技术达到了国内领先水平,填补国内相关领域的空白,为相关器件研究提供了有力的技术支撑。接下来,46所将继续深入Ga2O3同质外延技术研究,优化外延制备工艺,实现高结晶质量和电学特性可控的HVPE Ga2O3同质外延片的稳定制备。

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